Fen Plasma - aktivni kisik + ioni

Fen Plasma - aktivni kisik + ioni

Edini sušilec las na svetu z aktivatorjem aktivnega kisika. Ekskluzivna UV žarnica aktivira zrak in ga spremeni v aktivni kisik. Obnavlja in neguje lase, jih naredi sijoče, "svilene" in mehke po vsaki uporabi sušilca.

- tretma plazme: aktivni kisik + ioniziran zrak. Plazma oddaja aktivni kisik, ki izboljša barvo, medtem ko ščiti lase.
- aktivni kisik se intergira z barvnimi molekulami in s tem zagotavlja boljšo stabilnost in daljšo obstojnost barve na laseh
- oksidacijski proces, ki ga povzroči aktivni kisik uniči bakterijske kapsule in izboljša metabolizem lasišča, ter pripomore k naravni obnovi.

Vsebuje On/off stikalo za ionizacijo, ki nadzoruje negativne ionske emisijie. Ionske emisije odstranijo statičnost in "neposlušnost" las (ang. Frizz), kar se odraža v resnično gladkih stilih.
- ionsko stikalo na ON - lasje oskrbite z vlago, delujejo gladki in niso statični
- ionsko stikalo na OFF oz. O - lasje dobijo volumen in trdnost

Tehnične karakteristike:

- dolžina fena: 190 mm
- moč: 2.200W
- teža fena: samo 460 gramov
- glasnost: 70dB
- pritisk: 25mBar
- pretok zraka: 25 litrov/sekundo

Vsi znanstvene raziskave in prednosti je opravil bio-medicinski center za dermatologijo in trikologijo - Biomedical S.r.l.
Opozorilo: vse slike so namenjene za iliustracijo.

ČIŠČENJE FILTRA

Z namenom ohraniti zmogljivosti aparata optimalne skozi čas, svetujemo redno čiščenje filtra:
• vsak dan v primeru intenzivne in neprekinjene uporabe.
• dvakrat tedensko v primeru običajne uporabe.
• enkrat mesečno v primeru občasne uporabe.

Oglejte si še ostalo pestro ponudbo!